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光学用途向け、比類のない光線透過率と耐熱衝撃性を備えた炭化ケイ素セラミックス

製品詳細

起源の場所: 中国製

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ハイライト:

high hardness silicon carbide mirror

,

high purity sic mirror

,

silicon carbide mirror high purity

Feature:
High Temperature Resistance
Sic Purity:
≥98%
Thermal Expansion Coefficient:
4.0-4.5 x 10-6/K
Material:
Silicon Carbide
Hardness:
9.5 Mohs
Dimensional Stability:
Excellent
Maximum Temperature:
1700℃
Density:
3.21 g/cm3
Wear Resistance:
Excellent
Port:
Shanghai
Mechanical Strength:
High
Working Temperature:
1400℃
Thermal Conductivity:
120-200 W/mK
Corrosion Resistance:
Excellent
Bending Strength:
400 MPa
Feature:
High Temperature Resistance
Sic Purity:
≥98%
Thermal Expansion Coefficient:
4.0-4.5 x 10-6/K
Material:
Silicon Carbide
Hardness:
9.5 Mohs
Dimensional Stability:
Excellent
Maximum Temperature:
1700℃
Density:
3.21 g/cm3
Wear Resistance:
Excellent
Port:
Shanghai
Mechanical Strength:
High
Working Temperature:
1400℃
Thermal Conductivity:
120-200 W/mK
Corrosion Resistance:
Excellent
Bending Strength:
400 MPa
光学用途向け、比類のない光線透過率と耐熱衝撃性を備えた炭化ケイ素セラミックス

光学用途向け、比類のない光線透過率と耐熱衝撃性を備えた炭化ケイ素セラミックス 0

 

 

優れた先進セラミック材料の代表格であるシリカ精密セラミックスは、その独特の光学特性(光線透過率95%以上)、超低熱膨張率(0.5×10⁻⁶/℃)、優れた誘電特性(誘電率3.9)により、複数のハイテク分野で材料応用の基準を再定義しています。要求の厳しい光学レンズ、半導体製造装置、高温環境下の航空宇宙部品であっても、シリカセラミックスは完璧なソリューションを提供します。
半導体業界において、当社のシリカセラミック部品は、超高純度(99.99%)と優れたプラズマ腐食耐性を備え、エッチングや成膜を含むチップ製造プロセスにおいて信頼性の高い性能を保証します。光学用途では、シリカセラミックレンズは従来のガラスよりも30%高い光線透過率を提供し、優れた耐熱衝撃性を示します。航空宇宙分野では、特殊処理されたシリカセラミック断熱タイルが次世代再利用型宇宙船に採用され、優れた耐高温性(連続使用温度最大1600℃)を実証しています。
粉末調製から最終製品加工まで、精密成形や超精密研磨などの特殊技術を含め、お客様の最も厳しい材料性能要件を満たすための包括的なカスタマイズサービスを提供します。シリカ精密セラミックスを選択することは、優れた光線透過性、寸法安定性、誘電性能を備えた、将来性のある材料ソリューションを選択することです!
材料の限界を押し上げ、技術的ブレークスルーを可能に - シリカ精密セラミックス、信頼できる高性能材料パートナー!